Machine d'enduction sous vide de pulvérisation de magnétron d'or de couleur d'ATOP / or rose

1, la chambre de revêtement, les vannes et la tuyauterie sont en acier inoxydable de diamètre effectif de la chambre à vide

de mm500 mm à 0002000 mm;

2. Le système de vide se compose d'une pompe mécanique, d'une pompe rotative à palettes, d'une pompe rotz et d'un puits froid

pompe à diffusion d'huile sous vide ou pompe moléculaire;

3. Le système de revêtement adopte une cible plate ou cylindrique multiple, avec une puissance ou un milieu de courant continu multiples

alimentation en fréquence.

4. Le système de pompage auxiliaire adopte un piège à vapeur d'eau à basse température;

5. Le débitmètre de gaz et le contrôle (affichage) du débit du système pneumatique sont adoptés.

6. Le système de commande électrique doit mettre en place un dispositif de surcharge du circuit, de coupure d’eau et d’alarme sonore du

air brisé;

7. Système de contrôle (écran tactile + PLC), affichage des paramètres détaillés en temps réel, contrôle entièrement automatique de

l'ensemble du processus de production et le stockage automatique des paramètres du processus.

1. taux de dépôt élevé, vitesse de revêtement élevée, il peut être largement utilisé pour faire le revêtement décoratif, fonctionnel

revêtement sur une variété de produits. C’est donc un équipement idéal pour réaliser le meilleur revêtement de qualité

production.

2. Il équipements cryogéniques source secondaire d'ions, certains substrats sans chauffer le matériau, il peut

Faire directement le film de placage à froid à température ambiante, économiser de l'énergie, augmenter la productivité.


3. Le maximum de la température pour la chambre de revêtement d'outil peut 600 degrés, en plus de l'outil

Les applications de revêtement Coater nécessitent un dispositif de chauffage, d'autres applications n'ont pas besoin de l'appareil.


4. principe de pulvérisation de magnétron est basé sur la théorie de la décharge de la lueur de la cathode, il dépenser le

champ magnétique de la surface de la cathode près de la surface de la pièce. Ensuite, il améliore l'atome pulvérisé

taux d'ionisation. Il garde l'uniformité de pulvérisation cathodique magnétron, peut également améliorer l'effet brillant de surface.


5. La source d'évaporation de plasma d'arc est fiable, elle peut fonctionner sous le courant de 40A pour optimiser la cathode

et la structure du champ magnétique. Cela se produira par diffusion atomique entre le revêtement et le matériau. Il

a également les avantages que Lon Beam Assisted Deposition.


6. Le système de pompage sous vide, le système de contrôle électrique et le système complet de revêtement sous vide peuvent être

personnalisé selon les exigences de l'utilisateur.